国产光刻机一个也没有，国内中企半导体行业片面被暴露！

我国导体行业面临两大重要关键问题，缺乏中端芯片制造的光刻机和先进积体电路设计的EDA钢铁工业操作系统。这两个关键问题对于芯片行业的的发展至关重要。为了应对这些关键问题，我们有三条可行的路：自给自足、借力量量产中端芯片、应对光刻机和钢铁工业操作系统的难题。本文将聚焦光刻机关键问题，探究全国性导体行业的的发展现状以及获取的进展。

在导体行业，光刻机成为不来瞩目的焦点。美国禁止挪威阿斯麦向中华人民共和国出售EUV光刻机后，引发了全国性大量关注光刻机的发展的社会阶层。阿斯麦作为全球仅次于的导体电子元件制造商，其先进积体电路芯片关键电子元件备受瞩目。中华人民共和国为应对这一关键问题，投入巨资支持者中科院光刻机应用开发，并全国性芯片企业全力以赴应用开发替代EUV光刻机的电子元件。

然而，事实是我们无法过分全国性在其他科技领域获取的应用革新。虽然在光刻机科技领域比起欠缺，但在蚀刻、抛光、清扫等电子元件特别，国产电子元件已超出国际外资银行。这些电子元件得到了广为运用于，实质上也算是对国产应用的支持者。当然，支持者卷烟是重要的，但我们也要看到现实，无法一棒子论断所有应用革新。

实质上，全国性在光刻机科技领域的的发展速度越来越快。早在2020年，我们仍然成功制出国产两台28nm的immersion型式光刻机，而2022年更是传出国产14nm光刻机的消息。就在去年9月份，上海宣告国产14nm芯片已全盘批量生产，甚至还有机构在应用开发5nm光刻机，全国性一些顶尖科技企业和大学也在应用开发3nm和2nm的光刻机电子元件。虽然我们与全国性外应用仍有一定差距，但我们逃跑的速度却更快，这一点是不容过分的。